Ni2O3主要用作陶瓷、搪瓷和玻璃的着*劑,也可用於鎳粉的製造。以鎳粉廢料為原料製備Ni2O3的工藝如下:回答...

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問題詳情:

Ni2O3主要用作陶瓷、搪瓷和玻璃的着*劑,也可用於鎳粉的製造。以鎳粉廢料為原料製備Ni2O3的工藝如下:

Ni2O3主要用作陶瓷、搪瓷和玻璃的着*劑,也可用於鎳粉的製造。以鎳粉廢料為原料製備Ni2O3的工藝如下:回答...Ni2O3主要用作陶瓷、搪瓷和玻璃的着*劑,也可用於鎳粉的製造。以鎳粉廢料為原料製備Ni2O3的工藝如下:回答... 第2張

回答下列問題:

(1)Ni2O3中Ni的化合價為_________。

(2)提高“*浸”、“*溶”速率時,温度不宜過高,其原因是__________。

(3)加入H2O2“氧化”的離子方程式為_____________;濾渣A的主要成分是________(填化學式)。

(4)工藝中分步加入Na2CO3的作用是________;為提高原料的利用率,應控制加入NaClO與NaOH的物質的量之比為_________。

(5)工業上,用鎳為陽極,電解0.1mol/L NiCl2溶液與一定量NH4Cl組成的混合溶液,可得高純度的球形超細鎳粉。當其他條件一定時,NH4Cl的濃度對*極電流效率(電流效率是指電解時,在電極上實際沉積的物質的量與理論析出量之比)及鎳的成粉率的影響如圖所示:

Ni2O3主要用作陶瓷、搪瓷和玻璃的着*劑,也可用於鎳粉的製造。以鎳粉廢料為原料製備Ni2O3的工藝如下:回答... 第3張Ni2O3主要用作陶瓷、搪瓷和玻璃的着*劑,也可用於鎳粉的製造。以鎳粉廢料為原料製備Ni2O3的工藝如下:回答... 第4張

①為獲得高純度的球形超細鎳粉,NH4Cl溶液的濃度最好控制為______mol/L.

②當NH4Cl溶液的濃度大於15g/L時,*極有氣體生成,導致*極電流效率降低,請結合平衡移動原理解釋其原因:_______________。

【回答】

【*】+3    温度高,HCl揮發加快    2Fe2++2H++H2O2=2Fe3++2H2O    Fe(OH)3    將Fe3+和Ni2+分別沉澱出來    1:4    0.2    隨着NH4+濃度增大,水解平衡NH4++H2ONi2O3主要用作陶瓷、搪瓷和玻璃的着*劑,也可用於鎳粉的製造。以鎳粉廢料為原料製備Ni2O3的工藝如下:回答... 第5張NH3•H2O+H+   向右移動,H+濃度增大,導致*極析出H2   

【解析】鎳廢料用鹽**浸後得*浸後的**溶液中含有Ni2+、Cl-,另含有少量Fe2+、Fe3+、Al3+等,加入過氧化*氧化亞鐵離子為鐵離子,加入碳**溶液調節溶液的pH,使鋁離子、鐵離子全部沉澱,過濾後的濾液中再加入碳**沉澱鎳離子得NiCO3,濾液A中含有NaCl等物質,將NiCO3再溶於鹽*,得*化鎳溶液,向其中加入次***和*氧化*溶液可得Ni2O3,則。

(1)氧元素是-2價,根據正負價代數和為0可知Ni2O3中Ni的化合價為+3價。

(2)由於濃鹽*易揮發,所以温度過高,導致HCl揮發加快,因此温度不能太高。

(3)根據以上分析可知加入H2O2氧化亞鐵離子的離子方程式為2Fe2++2H++H2O2=2Fe3++2H2O;通過控制pH使鐵離子轉化為*氧化鐵沉澱,所以濾渣A的主要成分是Fe(OH)3。

(4)根據以上分析可知工藝中分步加入Na2CO3的作用是將Fe3+和Ni2+分別沉澱出來;在鹼*溶液中次***氧化鎳離子的方程式為2Ni2++ClO-+4OH-=Ni2O3↓+Cl-+2H2O,所以為提高原料的利用率,應控制加入NaClO與NaOH的物質的量之比為1:4。

(5)①根據圖可知,NH4Cl的濃度為10.7g•L-1時,鎳的成粉率最高,10.7g*化銨是0.2mol,所以NH4Cl的濃度最好控制為0.2mol/L。

②當NH4Cl濃度大於15g•L-1時,*極有*氣生成,導致*極電流效率降低。這是由於隨着NH4+濃度增大,水解平衡NH4++H2ONi2O3主要用作陶瓷、搪瓷和玻璃的着*劑,也可用於鎳粉的製造。以鎳粉廢料為原料製備Ni2O3的工藝如下:回答... 第6張NH3•H2O+H+向右移動,H+濃度增大,導致*極析出H2。

知識點:金屬元素的單質及其化合物

題型:綜合題

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