在半導體離子注入工藝中,初速度可忽略的*離子P+和P3+,經電壓為U的電場加速後垂直進入磁感應強度大小為B、方...

來源:國語幫 3.17W

問題詳情:

在半導體離子注入工藝中,初速度可忽略的*離子P+和P3+,經電壓為U的電場加速後垂直進入磁感應強度大小為B、方向垂直紙面向裏、有一定寬度的勻強磁場區域,如圖所示,已知離子P+在磁場中轉過θ=30°後從磁場右邊界*出。在電場和磁場中運動時,離子P+和P3+(  )

在半導體離子注入工藝中,初速度可忽略的*離子P+和P3+,經電壓為U的電場加速後垂直進入磁感應強度大小為B、方...

A.在電場中的加速度之比為1∶1

B.在磁場中運動的半徑之比為在半導體離子注入工藝中,初速度可忽略的*離子P+和P3+,經電壓為U的電場加速後垂直進入磁感應強度大小為B、方... 第2張∶1

C.在磁場中轉過的角度之比為1∶3

D.離開電場區域時的動能之比為1∶3

【回答】

BD

【解析】兩個離子的質量相同,其帶電荷量是1∶3的關係,所以由a=在半導體離子注入工藝中,初速度可忽略的*離子P+和P3+,經電壓為U的電場加速後垂直進入磁感應強度大小為B、方... 第3張可知,其在電場中的加速度是1∶3的關係,故A錯。要想知道半徑必須先知道進入磁場的速度,而速度的決定因素是加速電場,所以在離開電場時其速度表達式為:v=在半導體離子注入工藝中,初速度可忽略的*離子P+和P3+,經電壓為U的電場加速後垂直進入磁感應強度大小為B、方... 第4張,可知其速度之比為1∶在半導體離子注入工藝中,初速度可忽略的*離子P+和P3+,經電壓為U的電場加速後垂直進入磁感應強度大小為B、方... 第5張。又由qvB=m在半導體離子注入工藝中,初速度可忽略的*離子P+和P3+,經電壓為U的電場加速後垂直進入磁感應強度大小為B、方... 第6張知,r=在半導體離子注入工藝中,初速度可忽略的*離子P+和P3+,經電壓為U的電場加速後垂直進入磁感應強度大小為B、方... 第7張,所以其半徑之比為在半導體離子注入工藝中,初速度可忽略的*離子P+和P3+,經電壓為U的電場加速後垂直進入磁感應強度大小為B、方... 第8張∶1,故B正確。由B的分析知道,離子在磁場中運動的半徑之比為在半導體離子注入工藝中,初速度可忽略的*離子P+和P3+,經電壓為U的電場加速後垂直進入磁感應強度大小為B、方... 第9張∶1,設磁場寬度為L,離子通過磁場轉過的角度等於其圓心角,所以有sin θ=在半導體離子注入工藝中,初速度可忽略的*離子P+和P3+,經電壓為U的電場加速後垂直進入磁感應強度大小為B、方... 第10張,則可知角度的正弦值之比為1∶在半導體離子注入工藝中,初速度可忽略的*離子P+和P3+,經電壓為U的電場加速後垂直進入磁感應強度大小為B、方... 第11張,又P+的角度為30°,可知P3+的角度為60°,即在磁場中轉過的角度之比為1∶2,故C錯誤。由電場加速後:qU=在半導體離子注入工藝中,初速度可忽略的*離子P+和P3+,經電壓為U的電場加速後垂直進入磁感應強度大小為B、方... 第12張mv2可知,兩離子離開電場的動能之比為1∶3,故D正確。故選B、D。

知識點:磁場對運動電荷的作用力

題型:多項選擇

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