工業上可用粗硅(含鐵、鋁、硼、*等雜質)與乾燥的HCl氣體反應制得SiHCl3,:Si+3HCl=SiHCl3...
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問題詳情:
工業上可用粗硅(含鐵、鋁、硼、*等雜質)與乾燥的HCl氣體反應制得SiHCl3,:Si+3HCl=SiHCl3+H2,SiHCl3與過量的H2在1000℃~1100℃反應制得純硅。
有關物質的物理常數見下表:
物質 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | SiHCl3 | PCl5 |
沸點/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | 33.0 | — |
熔點/℃ | -70.0 | -107.2 | — | — | -126.5 | — |
昇華温度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
(1)粗硅與HCl反應完全後,經冷凝得到的SiHCl3中含有少量SiCl4,提純SiHCl3可採用
的方法
(2)實驗室也可用SiHCl3與過量乾燥的H2反應制取純硅,裝置如下圖所示(加熱和夾持裝置略去): ①裝置B中的試劑是 ,裝置C需水浴加熱,目的是 。 ②反應一段時間後,裝置D中可觀察到有晶體硅生成,裝置D不能採用普通玻璃管的原因是 。
【回答】
(1)蒸餾(1分)
(2)① 濃硫*(1分), 使SiHCl3氣化,與*氣反應(1分) ②SiHCl3與過量的H2在1000℃~1100℃反應制得純硅,温度太高,普通玻璃管易熔化(2分)
知識點:物質的分離 提純和檢驗
題型:實驗,探究題