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實驗室用H2還原SiHCl3(沸點：31.85℃)製備純硅的裝置如圖所示(夾持裝置和尾氣處理裝置略去)，下列説...
實驗室用H2還原SiHCl3(沸點：31.85℃)製備純硅的裝置如圖所示(夾持裝置和尾氣處理裝置略去)，下列説...
問題詳情：實驗室用H2還原SiHCl3(沸點：31.85℃)製備純硅的裝置如圖所示(夾持裝置和尾氣處理裝置略去)，下列説法正確的是(   )A.裝置Ⅱ、Ⅲ中依次盛裝的是濃H2SO4、*水B.實驗時，應先加熱管式爐，再打開盛裝稀硫*的分液漏斗...
製備硅半導體材料必須先得到高純硅。三**硅*(SiHCl3)還原法是當前製備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如...
製備硅半導體材料必須先得到高純硅。三**硅*(SiHCl3)還原法是當前製備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如...
問題詳情：製備硅半導體材料必須先得到高純硅。三**硅*(SiHCl3)還原法是當前製備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如下：（1）寫出由石英砂製取粗硅的化學方程式                              ...
三**硅(SiHCl3)是製備硅*、多晶硅的重要原料。回答下列問題：(1)SiHCl3在常温常壓下為易揮發的無...
三**硅(SiHCl3)是製備硅*、多晶硅的重要原料。回答下列問題：(1)SiHCl3在常温常壓下為易揮發的無...
問題詳情：三**硅(SiHCl3)是製備硅*、多晶硅的重要原料。回答下列問題：(1)SiHCl3在常温常壓下為易揮發的無*透明液體，遇潮氣時發煙生成(HSiO)2O等，寫出該反應的化學方程式_______________________________________________...
製造太陽能電池需要高純度的硅，工業上制高純硅常用以下反應實現①Si（固）+3HCl（氣）SiHCl3（氣）+H...
製造太陽能電池需要高純度的硅，工業上制高純硅常用以下反應實現①Si（固）+3HCl（氣）SiHCl3（氣）+H...
問題詳情：製造太陽能電池需要高純度的硅，工業上制高純硅常用以下反應實現①Si（固）+3HCl（氣）SiHCl3（氣）+H2（氣） ②SiHCl3+H2Si+3HCl對上述兩個反應的敍述中，錯誤的是（）A．兩個反應都是置換反應B．據反應條件無法判斷反應是否吸熱C．兩個...
工業上可用粗硅(含鐵、鋁、硼、*等雜質)與乾燥的HCl氣體反應制得SiHCl3，：Si+3HCl=SiHCl3...
工業上可用粗硅(含鐵、鋁、硼、*等雜質)與乾燥的HCl氣體反應制得SiHCl3，：Si+3HCl=SiHCl3...
問題詳情：工業上可用粗硅(含鐵、鋁、硼、*等雜質)與乾燥的HCl氣體反應制得SiHCl3，：Si+3HCl=SiHCl3+H2，SiHCl3與過量的H2在1000℃～1100℃反應制得純硅。有關物質的物理常數見下表：物質SiCl4BCl3AlCl3FeCl3SiHCl3PCl5沸點/℃5...
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