製備硅半導體材料必須先得到高純硅。三**硅*(SiHCl3)還原法是當前製備高純硅的主要方法,生產過程示意圖如...
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問題詳情:
製備硅半導體材料必須先得到高純硅。三**硅*(SiHCl3)還原法是當前製備高純硅的主要方法,生產過程示意圖如下:
(1)寫出由石英砂製取粗硅的化學方程式 ;
由純SiHCl3製備高純硅的化學方程式____________________________________。
(2)某玻璃廠以石英砂、純鹼、石灰石為原料生產普通玻璃。石英砂在高温條件下分別與純鹼、石灰石反應得到相應硅*鹽。請寫出有關反應的化學方程式。
①_________________________________________________;
②_________________________________________________。
(3)該普通玻璃的組成為(質量分數):Na2O 13% ,CaO 11.7% ,SiO2 75.3%。
①以氧化物組成的形式表示該玻璃的化學式: 。
②若該廠每天生產10 t 玻璃,石英砂原料利用率按95%計算,請寫出每天消耗石英砂質量至少為 (保留2位有效數字)。
【回答】
(1)SiO2+2CSi+2CO↑ SiHCl3+H2Si+3HCl
(2)Na2CO3+SiO2Na2SiO3+CO2↑ CaCO3+SiO2 CaSiO3+CO2↑
(3)Na2O·CaO·6SiO2 (4)7.9t
知識點:非金屬元素的單質及其化合物
題型:綜合題