PCl3是*的常見*化物,可用於半導體生產的外延、擴散工序。有關物質的部分*質如下:熔點/℃沸點/℃密度/g·...

來源:國語幫 1.69W

問題詳情:

PCl3是*的常見*化物,可用於半導體生產的外延、擴散工序。有關物質的部分*質如下:

熔點/℃

沸點/℃

密度/g·mL-1

其它

黃*

44.1

280.5

1.82

2P+3Cl2(少量) PCl3是*的常見*化物,可用於半導體生產的外延、擴散工序。有關物質的部分*質如下:熔點/℃沸點/℃密度/g·... 2PCl3

2P+5Cl2(過量) PCl3是*的常見*化物,可用於半導體生產的外延、擴散工序。有關物質的部分*質如下:熔點/℃沸點/℃密度/g·... 第2張 2PCl5

PCl3

-112

75.5

1.574

遇水生成H3PO3和HCl,

遇O2生成POCl3

如圖是實驗室製備PCl3的裝置(部分儀器已省略)。

PCl3是*的常見*化物,可用於半導體生產的外延、擴散工序。有關物質的部分*質如下:熔點/℃沸點/℃密度/g·... 第3張(1)儀器乙的名稱是__________。

(2)實驗室用二氧化錳和濃鹽*反應制備Cl2

的離子方程式_____________________。

實驗過程中,為減少PCl5的生成,應控

制______________。

(3)鹼石灰的作用:一是防止空氣中的水蒸氣進入而使PCl3水解;二是吸收多餘的Cl2,防止污染環境。寫出PCl3遇水反應的化學方程式_____________________。

(4)向儀器*中通入乾燥Cl2之前,應先通入一段時間CO2排盡裝置中的空氣,其目的是__________________________________________。

(5)測定產品中PCl3純度的方法如下:迅速稱取4.100 *品,水解完全後配成500 mL溶液,取出25.00 mL加入過量的0.1000 mol·L-120.00 mL*溶液,充分反應後再用0.1000 mol·L-1 Na2S2O3溶液滴定過量的*,以澱粉溶液作指示劑,終點時消耗12.00 mL Na2S2O3溶液。已知:H3PO3+H2O+I2=H3PO4+2HI;I2+2Na2S2O3=2NaI+Na2S4O6;假設測定過程中沒有其它反應。滴定終點的現象是:

     __________________________________________________________________。

根據上述數據,該產品中PCl3(相對分子質量為137.5)的質量分數為_______。

【回答】

(1)冷凝管(或冷凝器)。

(2)MnO2+4H++2Cl- PCl3是*的常見*化物,可用於半導體生產的外延、擴散工序。有關物質的部分*質如下:熔點/℃沸點/℃密度/g·... 第4張 Mn2++Cl2↑+2H2O、*氣通入的速率(或流量) 。

(3)PCl3+3H2O= H3PO3+ 3HCl        (4)防止O2和水蒸氣與PCl3反應

(5)最後一滴標準液滴入時,溶液褪*且半分鐘內不恢復(或由藍*變無*)、93.90%

知識點:非金屬元素的單質及其化合物

題型:實驗,探究題

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