用硼離子造句子，“硼離子”造句

用二次離子質譜測量了注入硼離子的深度分佈。

通過數值計算，建立了製備過程中硅基底中的硼離子的空間濃度分佈的理論模型，優化了二次硼擴散工藝條件。

其中有一個非常重要的地方需要注意，不是硼，而是正一價硼離子，因為我們已經拿走了一個電子了。

通過對鉛玻璃和石英玻璃的x*線光電子能譜的詳細研究，發現硼離子注入後氧和硅的結合能峯稍有位移。

一百那麼讓我們來想一想，拿走一個，s，電子所消耗的能量，假設一個是從正一價硼離子中拿走另一個是從中*硼原子中拿走。