三*化氮（NF3）是微電子工業中優良的等離子刻蝕氣體，它在潮濕的環境中能發生反應：3NF3+5H2O=2NO+...
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問題詳情：
三*化氮（NF3）是微電子工業中優良的等離子刻蝕氣體，它在潮濕的環境中能發生反應：3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF。下列有關該反應的説法正確的是（ ）
3是氧化劑，H2O是還原劑
B.還原劑與氧化劑的物質的量之比為2:1
C.若生成0.2 mol HNO3，則轉移0.2 mol電子
3在潮濕的空氣中泄漏會產生紅棕*氣體
【回答】
D
知識點：氧化還原反應
題型：選擇題
