光刻機是生產大規模集成電路的核心設備，光刻機的曝光波長越短，分辨率越高。“浸沒式光刻”是一種通過在光刻膠和投影...

問題詳情：

光刻機是生產大規模集成電路的核心設備，光刻機的曝光波長越短，分辨率越高。“浸沒式光刻”是一種通過在光刻膠和投影物鏡之間加入浸沒液體，從而減小曝光波長、提高分辨率的技術。如圖所示，若浸沒液體的折*率為1.44，當不加液體時光刻膠的曝光波長為193nm，則加上液體時光刻膠的曝光波長變為（　　）

A．161 nm                  B．134 nm                  C．93nm                     D．65nm

【回答】

B

【解析】

加上液體時光刻膠的曝光波，光在液體中的傳播速度為，不加液體時聯立得

故B正確，ACD錯誤。

故選B。

知識點：光的折*

題型：選擇題